Radyofrekans plazma içine gönderilen ethanol molekülleriyle grafen tabakalar üretildi. Plazma yardımlı kimyasal buhar biriktirme sistemi, 40,68 MHz 250 W rf güç kaynağı, bir kuartz tüp(145 cm uzunluğunda ve 2,5 cm yarıçapında) ve kuartz tüpün bir kısmını saran fırın kullanılarak kuruldu. Bakır tabaka kuartz tüp içine grafen biriktirme için yerleştirildi. Ethanol buharı 1mTorr luk argon ortamına gönderildi ve plazma için güç uygulandı Fırın sıcaklığı 500-900 0C aralığında değiştirildi.Bakır tabaka yüzeyi XRD ve SEM ile analiz edildi. Anahtar Kelimeler: grafen, RF, Ar plazma, etanol, H2
Graphene sheets were produced by injecting ethanol molecules into radiofrequency plasma. The plasma enhanced chemical vapor deposition system (PECVD) was set up by using 40.68 MHz 250 W rf power source, a quartz tube (145 cm length and 2.5 cm radius) and the oven that partially covered the quartz tube. A copper sheet was placed inside the quartz tube for graphene deposition. Ethanol vapor was sent into the 1 mTorr argon environment and power was turned on for plasma. The oven temperatures were varied between 650-950 0C. The copper sheet surface were analyzed by XRD and SEM Keywords: graphene, RF, Ar plasma, ethanol, H2
Tez (Yüksek Lisans) - Süleyman Demirel Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Fizik Anabilim Dalı, 2016.
Kaynakça var.
Radyofrekans plazma içine gönderilen ethanol molekülleriyle grafen tabakalar üretildi. Plazma yardımlı kimyasal buhar biriktirme sistemi, 40,68 MHz 250 W rf güç kaynağı, bir kuartz tüp(145 cm uzunluğunda ve 2,5 cm yarıçapında) ve kuartz tüpün bir kısmını saran fırın kullanılarak kuruldu. Bakır tabaka kuartz tüp içine grafen biriktirme için yerleştirildi. Ethanol buharı 1mTorr luk argon ortamına gönderildi ve plazma için güç uygulandı Fırın sıcaklığı 500-900 0C aralığında değiştirildi.Bakır tabaka yüzeyi XRD ve SEM ile analiz edildi. Anahtar Kelimeler: grafen, RF, Ar plazma, etanol, H2
Graphene sheets were produced by injecting ethanol molecules into radiofrequency plasma. The plasma enhanced chemical vapor deposition system (PECVD) was set up by using 40.68 MHz 250 W rf power source, a quartz tube (145 cm length and 2.5 cm radius) and the oven that partially covered the quartz tube. A copper sheet was placed inside the quartz tube for graphene deposition. Ethanol vapor was sent into the 1 mTorr argon environment and power was turned on for plasma. The oven temperatures were varied between 650-950 0C. The copper sheet surface were analyzed by XRD and SEM Keywords: graphene, RF, Ar plasma, ethanol, H2