DSpace Repository

Tio2 ve boya katkılı tio2 ince filmlerin elektrokimyasal depolama yöntemi ile üretimi ve karakterizasyonu = Characterization and production of tio2 and dye doped tio2 thin films by electrochemical deposition method /

Show simple item record

dc.creator Onay, Gülten, 1988- author 99224
dc.creator Çiçek Bezir, Nalan, 1971- thesis advisor 22839
dc.creator Süleyman Demirel Üniversitesi. Fen Bilimleri Enstitüsü. Fizik Anabilim Dalı. 9075 issuing body
dc.date 2014.
dc.identifier http://tez.sdu.edu.tr/Tezler/TF02553.pdf
dc.description Bu çalışmada, TiO2 ince filmler, farklı depolama süreleri ve farklı gerilimler uygulayarak FITO iletken camlar üzerine elektrokimyasal depolama yöntemi ile elde edilmiştir. Kaplamalar farklı gerilim değerlerinde (1 V, 1.1 V, 1.2 V, 1.3 V ve 1.4 V) farklı depolama sürelerinde (5,10,15,20 dakikalarda) elde edilmiştir.Elektrokimyasal depolama işleminde Ag/AgCl elektrot ve kalomel elektrot kullanılmıştır.Elde edilen ince filmlerin kristal yapısı X-ışını kırınım cihazı (XRD) kullanılarak yapılmış ve örneklerin anataz kristal yapısına sahip oldukları görülmüştür.Örneklerin morfolojisi SEM ile incelenmiş ve elde edilen örneklerin yüzey yapılarının uygulanan gerilim değerleri ve kullanılan elektrota göre değiştiği görülmüştür. Örneklerin optik özellikleri UV verileri ile belirlenmiş ve buna göre örneklerin absorbans-dalga boyu ve geçirgenlik-dalga boyu grafikleri çizilmiştir. Absorbans değerinin 10 dakika ve 15 dakika sürelerde yüksek olduğu görülmüştür. 15 dakikadan sonra 20 dakikada bu değerin düştüğü görülmüştür. Anahtar Kelimeler: TiO2, Ag/AgCl, XRD, UV, Elektrokimyasal depolama
dc.description In this study, the TiO2 thin films were prepared at different voltages and for different deposited times on conducting glass (FITO) by the electrochemical deposition method. The coatings on the substrates were fabricated at different voltages (1 V, 1.1 V, 1.2 V, 1.3 V, 1.4 V) for different deposition times (5,10,15,20 minutes). During the electrochemical deposition processes Ag / AgCl and calomel electrodes were used.The crystal structure of the obtained thin films was created using X-Ray Diffraction device (XRD) and the samples were found to have anatase crystal structure. The morphology of the samples were analyzed through SEM and it was concluded that the surface structures of the obtained samples varied in accord with the voltage values applied and electrodes used. The optical properties of the samples were determined through UV data and in accord with this samples' graphs of absorbance-wavelength and transmittance-wavelength were drawn. Absorbance value was observed to be high for 10-minute and 15-minute periods. After 15 minutes, the value was observed to fall. Keywords: TiO2, Ag/AgCl, XRD, UV, Electrochemical deposition
dc.description Tez (Yüksek Lisans) - Süleyman Demirel Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Fizik Anabilim Dalı, 2014.
dc.description Kaynakça var.
dc.description Bu çalışmada, TiO2 ince filmler, farklı depolama süreleri ve farklı gerilimler uygulayarak FITO iletken camlar üzerine elektrokimyasal depolama yöntemi ile elde edilmiştir. Kaplamalar farklı gerilim değerlerinde (1 V, 1.1 V, 1.2 V, 1.3 V ve 1.4 V) farklı depolama sürelerinde (5,10,15,20 dakikalarda) elde edilmiştir.Elektrokimyasal depolama işleminde Ag/AgCl elektrot ve kalomel elektrot kullanılmıştır.Elde edilen ince filmlerin kristal yapısı X-ışını kırınım cihazı (XRD) kullanılarak yapılmış ve örneklerin anataz kristal yapısına sahip oldukları görülmüştür.Örneklerin morfolojisi SEM ile incelenmiş ve elde edilen örneklerin yüzey yapılarının uygulanan gerilim değerleri ve kullanılan elektrota göre değiştiği görülmüştür. Örneklerin optik özellikleri UV verileri ile belirlenmiş ve buna göre örneklerin absorbans-dalga boyu ve geçirgenlik-dalga boyu grafikleri çizilmiştir. Absorbans değerinin 10 dakika ve 15 dakika sürelerde yüksek olduğu görülmüştür. 15 dakikadan sonra 20 dakikada bu değerin düştüğü görülmüştür. Anahtar Kelimeler: TiO2, Ag/AgCl, XRD, UV, Elektrokimyasal depolama
dc.description In this study, the TiO2 thin films were prepared at different voltages and for different deposited times on conducting glass (FITO) by the electrochemical deposition method. The coatings on the substrates were fabricated at different voltages (1 V, 1.1 V, 1.2 V, 1.3 V, 1.4 V) for different deposition times (5,10,15,20 minutes). During the electrochemical deposition processes Ag / AgCl and calomel electrodes were used.The crystal structure of the obtained thin films was created using X-Ray Diffraction device (XRD) and the samples were found to have anatase crystal structure. The morphology of the samples were analyzed through SEM and it was concluded that the surface structures of the obtained samples varied in accord with the voltage values applied and electrodes used. The optical properties of the samples were determined through UV data and in accord with this samples' graphs of absorbance-wavelength and transmittance-wavelength were drawn. Absorbance value was observed to be high for 10-minute and 15-minute periods. After 15 minutes, the value was observed to fall. Keywords: TiO2, Ag/AgCl, XRD, UV, Electrochemical deposition
dc.language tur
dc.publisher Isparta : Süleyman Demirel Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü,
dc.subject Süleyman Demirel Üniversitesi
dc.title Tio2 ve boya katkılı tio2 ince filmlerin elektrokimyasal depolama yöntemi ile üretimi ve karakterizasyonu = Characterization and production of tio2 and dye doped tio2 thin films by electrochemical deposition method /
dc.type text


Files in this item

Files Size Format View

There are no files associated with this item.

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Search DSpace


Advanced Search

Browse

My Account