| dc.creator |
Erdem, Aydın Kamil,
1986-
author
145529 |
|
| dc.creator |
Çiçek Bezir, Nalan,
1971-
thesis advisor
22839 |
|
| dc.creator |
Süleyman Demirel Üniversitesi.
Fen Bilimleri Enstitüsü.
Fizik Anabilim Dalı.
9075
issuing body |
|
| dc.date |
2016. |
|
| dc.identifier |
http://tez.sdu.edu.tr/Tezler/TF03151.pdf |
|
| dc.description |
Bu çalışmada şeffaf ve iletkenin indiyum-kalay oksit (ITO); DC magnetron püskürtme yöntemi ile bir cam alt-tabaka üzerinde biriktirilmiştir. Elde edilen ince filmin optik ve elektriksel özellikleri incelenerek optimum büyüme koşulları belirlenmiştir. Yüzey morfolojisi X-ışını kırınımı (XRD) ile karakterize edilmiştir. Ayrıca ince filmlerin elektriksel özellikleri dört nokta metodu kullanılarak belirlenmiştir. Bu ince filmlerin ısı ve oksijene bağlı olarak Kristal yapısı değişmiştir. Depolama basıncı 7x10-3 Barr ve 200 sıcaklık ve 150 magnetron gücünde argon ve oksijen oranı 28:1 ve depolama zamanı 6 dakika olarak alınmıştır. Optimum direnç 10 ohm geçirgenlik %85-95 olarak elde edilmiştir. Depolama zamanının azalması ile geçirgenlik artmıştır depolama ısısı ile de direnç değişmiştir. Anahtar Kelimeler: İnce Filmler, İndiyum Kalay Oksit, Magnetron Sıçratma. |
|
| dc.description |
In this study, transparent and conductive indium-tin oxide (ITO) was deposited on glass substrate by DC magnetron sputtering method. The optical and electrical characteristics were investigated to achieve optimum growth conditions. The surface morphology was characterized by X-ray diffraction (XRD). More over the resistivity were measured by four prop to find out electrical properties of grown films. It is found that thin films were grown crystal was depend on heat and oxygen. In addition that the resistivity decreasing with an increase in the deposition heat. The transparency increase with an degrease in deposition time the optimum growth condition DC power:150 deposition pressure 7x10-3Barr deposition heat 200 C, and the gas of argon and oxygen 28:1 and the deposition time was 6 minute. With the optimum condition resistivity of 10 ohm, transmittance %85-95 for films grown on glass substrate. We conclude that the deposition heat improve the resistivity and with degrease of deposition time increase the transmittance. Keywords: Thin Films, ITO, Magnetron Sputtering. |
|
| dc.description |
Tez (Yüksek Lisans) - Süleyman Demirel Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Fizik Anabilim Dalı, 2016. |
|
| dc.description |
Kaynakça var. |
|
| dc.description |
Bu çalışmada şeffaf ve iletkenin indiyum-kalay oksit (ITO); DC magnetron püskürtme yöntemi ile bir cam alt-tabaka üzerinde biriktirilmiştir. Elde edilen ince filmin optik ve elektriksel özellikleri incelenerek optimum büyüme koşulları belirlenmiştir. Yüzey morfolojisi X-ışını kırınımı (XRD) ile karakterize edilmiştir. Ayrıca ince filmlerin elektriksel özellikleri dört nokta metodu kullanılarak belirlenmiştir. Bu ince filmlerin ısı ve oksijene bağlı olarak Kristal yapısı değişmiştir. Depolama basıncı 7x10-3 Barr ve 200 sıcaklık ve 150 magnetron gücünde argon ve oksijen oranı 28:1 ve depolama zamanı 6 dakika olarak alınmıştır. Optimum direnç 10 ohm geçirgenlik %85-95 olarak elde edilmiştir. Depolama zamanının azalması ile geçirgenlik artmıştır depolama ısısı ile de direnç değişmiştir. Anahtar Kelimeler: İnce Filmler, İndiyum Kalay Oksit, Magnetron Sıçratma. |
|
| dc.description |
In this study, transparent and conductive indium-tin oxide (ITO) was deposited on glass substrate by DC magnetron sputtering method. The optical and electrical characteristics were investigated to achieve optimum growth conditions. The surface morphology was characterized by X-ray diffraction (XRD). More over the resistivity were measured by four prop to find out electrical properties of grown films. It is found that thin films were grown crystal was depend on heat and oxygen. In addition that the resistivity decreasing with an increase in the deposition heat. The transparency increase with an degrease in deposition time the optimum growth condition DC power:150 deposition pressure 7x10-3Barr deposition heat 200 C, and the gas of argon and oxygen 28:1 and the deposition time was 6 minute. With the optimum condition resistivity of 10 ohm, transmittance %85-95 for films grown on glass substrate. We conclude that the deposition heat improve the resistivity and with degrease of deposition time increase the transmittance. Keywords: Thin Films, ITO, Magnetron Sputtering. |
|
| dc.language |
tur |
|
| dc.publisher |
Isparta : Süleyman Demirel Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü, |
|
| dc.subject |
Süleyman Demirel Üniversitesi |
|
| dc.title |
Sıçratma yöntemi ile kaplanmış iletken camların optik ve yapısal karakterizasyonları = Characterization of ITO thin films prepared by magnetron sputtering dc system / |
|
| dc.type |
text |
|