DSpace Repository

Sol-Jel Yöntemi ile Üretilen ZnO(Al)/p-Si Heteroekleminin Elektriksel Karakterizasyonu

Show simple item record

dc.creator AKÇAY, Namık; İstanbul Üniversitesi, Fen Fakültesi, Fizik Bölümü
dc.date 2018-11-30T00:00:00Z
dc.date.accessioned 2019-07-09T11:48:27Z
dc.date.available 2019-07-09T11:48:27Z
dc.identifier http://dergipark.org.tr/sdufeffd/issue/40584/462245
dc.identifier 10.29233/sdufeffd.462245
dc.identifier.uri http://acikerisim.sdu.edu.tr/xmlui/handle/123456789/45678
dc.description Bu çalışmada, p-tipi Silisyum(p-Si) üzerine katkısız Çinko Oksit (ZnO) ve %2 Alüminyum katkılı çinko oksit(ZnOAl) kaplanarak oluşturulan heteroeklemlerin elektriksel özellikleriincelenmiştir. ZnO ve ZnOAl nanoparçacıklar Sol-Jel yöntemi ile sentezlenmiş veZnO/p-Si, ZnOAl/p-Si heteroeklemleri döndürme kaplama tekniği ileoluşturulmuştur. Kaplama sonrası örneklere 450 oC’de 30 dk termaltavlama işlemi uygulanmıştır. 10K-300K aralığında alınan Akım-Voltaj (I-V) veKapasite-Voltaj (C-V) ölçümleri örneklerin çok düşük sızıntı akımına sahipdiyot davranışı sergilediğini göstermektedir. C-V ölçüm sonuçlarından diyotların bariyer yüksekliği (Vbi) ve taşıyıcıkonsantrasyonları (Nd)hesaplandı. Derin seviyegeçiş spektroskopisi (DLTS) tekniği ile arınma bölgesi civarında bulunan tuzakseviyeleri araştırılmıştır. Her iki örnekte de elektron tuzaklarının varlığıtespit edilmiştir.
dc.description In this work, the electrical properties of heterojunctions formed by coating of undopedZinc Oxide (ZnO) and 2% Aluminum doped zinc oxid (AZO) on p-type silicon (p-Si) wereinvestigated. ZnO and AZO nanoparticles were synthesized by Sol-Gel method and ZnO / p-Si,ZnO (Al) / p-Si heterojunctions were formed by spin coating technique. After the coating, thesamples were thermally annealed at 450 oC for 30 minutes. Current-Voltage (I-V) andCapacitance-Voltage (C-V) measurements taken at 10K-300K show that the samples exhibitdiode behavior with very low leakage current. Built-in potential (Vbi) and carrier concentrations(Nd) of diodes were calculated from C-V measurement results. Deep level transition spectroscopy(DLTS) technique was used to investigate trap levels around the depletion region. The presenceof electron traps in both samples was determined.
dc.format application/pdf
dc.language tr
dc.publisher Süleyman Demirel University
dc.publisher Süleyman Demirel Üniversitesi
dc.relation http://dergipark.org.tr/download/article-file/582035
dc.source Volume: 13, Issue: 2 121-131 en-US
dc.source 1306-7575
dc.subject ZnO ince film,Al katkılama,ZnO/p-Si heteroeklemi,DLTS
dc.subject ZnO thin film,Al doping,ZnO/p-Si heterojunction,DLTS
dc.title Sol-Jel Yöntemi ile Üretilen ZnO(Al)/p-Si Heteroekleminin Elektriksel Karakterizasyonu en-US
dc.title Electrical Characterization of ZnO (Al) / p-Si Heterojunctions Fabricated by SolGel Method en-US
dc.type info:eu-repo/semantics/article


Files in this item

Files Size Format View

There are no files associated with this item.

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Search DSpace


Advanced Search

Browse

My Account