DSpace Repository

Silisyum Uygulamasının Bor Stresi Altındaki Buğday Üzerindeki Etkisi

Show simple item record

dc.creator ERKAN, İbrahim Ertan
dc.date 2019-12-25T00:00:00Z
dc.date.accessioned 2020-01-02T08:34:58Z
dc.date.available 2020-01-02T08:34:58Z
dc.identifier https://dergipark.org.tr/tr/pub/sdufenbed/issue/49749/535286
dc.identifier 10.19113/sdufenbed.535286
dc.identifier.uri http://acikerisim.sdu.edu.tr/xmlui/handle/123456789/49415
dc.description Bu araştırmada, bor (B) stresi altındaki buğdaybitkisinde farklı silisyum (Si) konsantrasyonlarının (0.75, 5, 10 mM) etkisi, dokuuzunluğu, malondialdehit (MDA), iyon sızıntısı, bağıl su içeriği (RWC) vetoplam klorofil içeriği gibi bazı stres göstergeleri aracılığıylaincelenmiştir. Silisyumun stres azaltıcı etkisi membran hasarınıniyileştirilmesi ile MDA ve iyon sızıntısı seviyelerinin pozitif düzenlenmesiüzerinde gözlenmiştir. Bor (B) stresi nedeniyle gövde dokularında nekrozmeydana gelmesine rağmen silisyum uygulamasının sürgün ve kök uzunluklarıüzerinde önemli bir değişiklik gerçekleştirmediği gözlemlenmiştir. Ancak tamaksine bağıl su içeriği (RWC), bor stresi altında silisyum uygulanması ilepozitif olarak değişmiştir. Ayrıca silisyum ve bor stresinin (Si+B) birlikteuygulandığı setlerde silisyum, bağıl su içeriğini kontrol bitkilerindekiseviyelere kadar artırmaktadır. Toplam klorofil içeriği 0.75 ve 5 mM silisyumvarlığı ile artarken 10 mM silisyumun bor stresi altında klorofil içeriğineherhangi bir etkisi olmamıştır. Genel olarak, silisyumun buğday üretiminde borstresini azaltıcı bir potansiyele sahip olduğu bulunmuştur.
dc.description In this study, effects of different silicon (Si)concentrations (0.75, 5, 10 mM) on wheat under boron(B) stress, investigated bymeans of some stress indicators such as tissue length, malondialdehyde (MDA),ion leakage, relative water content (RWC) and total chlorophyll content. Stressmitigating effects of silicon were observed mainly as reductions on membranedamage with reduced MDA concentrations and decreased ion leakage levels. Althoughnecrosis was present on shoot tissues due to the boron stress, no significantchange observed on shoot and root length with the application of Si. On thecontrary, relative water content (RWC) has changed positively with theimplementation of Si under boron stress. Furthermore Si has enhanced RWC levelin Si+B co-applicated sets to the level of control plants. Total chlorophyllcontent increased with the existance of 0.75 and 5 mM Si, while 10 mM Si had noeffect on the chorophyll content under boron stress. Overall, silicon was foundto have a potential to alleviate boron stress in wheat production.
dc.format application/pdf
dc.language en
dc.publisher Süleyman Demirel University
dc.publisher Süleyman Demirel Üniversitesi
dc.relation https://dergipark.org.tr/tr/download/article-file/862072
dc.source Volume: 23, Issue: 3 743-747 en-US
dc.source 1308-6529
dc.subject Bor toksisitesi,Silisyum uygulaması,Buğday bor stresi,Membran hasarı,Bağıl su içeriği,Klorofil içeriği
dc.subject Boron toxicity,Silicon treatment,Wheat boron stress,Membran damage,Relative water content,Chlorophyll content
dc.title Silisyum Uygulamasının Bor Stresi Altındaki Buğday Üzerindeki Etkisi tr-TR
dc.title Effect of Silicon Application on Wheat Under Boron Stress en-US
dc.type info:eu-repo/semantics/article


Files in this item

Files Size Format View

There are no files associated with this item.

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

Search DSpace


Advanced Search

Browse

My Account